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真空鍍膜機有哪些主要特點與用途?
發(fā)布時間:2014-02-08 瀏覽:5554  次

    真空鍍膜機真空鍍膜室、蒸發(fā)源、真空機組、卡具、蒸發(fā)電源、控制系統(tǒng)與輔助裝置等組成。

  主要特點:

  1、配有石英晶體或光學(xué)膜厚控制儀,可以實現(xiàn)膜厚鍍膜自動控制,實現(xiàn)高精度的鍍膜效果。

  2、配RF離子轟擊裝置達到凈化基體表面的作用,使膜與基體表面附著力更好,提高膜層的強度。

  3、可同時蒸鍍兩種以上不同的蒸鍍材料,可制成復(fù)合膜。

  4、操作簡便、適應(yīng)生產(chǎn)、科研的理想機。

  5、具有過流、過壓保護及斷水、欠壓保護及電氣互鎖的功能。

 

  真空鍍膜機可采用電阻加熱式蒸發(fā)源、電子束加熱式蒸發(fā)源和感應(yīng)加熱式蒸發(fā)源??梢哉舭l(fā)金屬、金屬氧化物和非金屬氧化物,適用于電子工業(yè)、光學(xué)工業(yè)的導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、濾光膜、裝飾膜等


 


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