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電鍍蒸發(fā)鍍膜設(shè)備介紹
發(fā)布時間:2014-02-20 瀏覽:  次

電鍍蒸發(fā)鍍膜設(shè)備介紹

     用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備四部分組成。

    真空室是放置鍍件、進(jìn)行鍍膜的場所,直徑一般為400~700mm,高400~800mm,用不銹鋼制作,有水冷卻裝置。

    真空鍍膜設(shè)備中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染,消除空間碰撞,提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。

    為了提高鍍層厚度的均勻性,真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機(jī)構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運(yùn)動裝置,如用行星運(yùn)動方式,這種運(yùn)動方式成膜均勻性好,臺階覆蓋性能良好,鍍件裝載量大,可以充分利用真空鍍膜室的有效空間,是目前經(jīng)常采用的運(yùn)動方式。

    排氣系統(tǒng)一般由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率,可在機(jī)械泵和擴(kuò)散泵之間加機(jī)械增壓泵。因此,排氣系統(tǒng)既要求在較短的時間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán),也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。

    蒸發(fā)系統(tǒng)包括蒸發(fā)源和加熱蒸發(fā)源的電氣設(shè)備。電氣設(shè)備包括測量真空和膜層厚度及控制臺等。

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