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    真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備能產(chǎn)生很硬的陶瓷涂層，這有利于提高耐磨性；涂層均勻一致，且孔隙度小，涂層結(jié)合強(qiáng)度高涂層表面粗糙度小，可不需加工。

    多弧離子鍍膜設(shè)備活塞環(huán)所采用的TiN、CrN、ZrN、TiAlN等是利用物理氣相沉積  工藝在合金鋼活塞環(huán)上形成的數(shù)微米厚的硬質(zhì)薄膜。在這里金剛石膜已在賽車發(fā)動(dòng)機(jī)活塞環(huán)上作過(guò)應(yīng)用嘗試，與CrN相比，在確保同等耐磨性的同時(shí)，有效地降低了計(jì)算機(jī)全程監(jiān)控的十二弧源離子鍍膜機(jī)摩擦，成為了今后減摩表面處理技術(shù)的發(fā)展方向。

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