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| 真空鍍膜設備真空室的設計方法 |
| 發(fā)布時間：2014-12-12 瀏覽： 次 |
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真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或化學方法，使物體表面獲取所需膜體，真空鍍膜技術根據(jù)其采用方法的不同科分成蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等，這次分析的鍍膜設備采用的是磁控濺射鍍膜機鍍膜。 真空室是真空設備的一個主要部位，真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性，結構必須要合理，真空設備的材料生產(chǎn)都是在真空室內(nèi)進行的，材料對真空度的影響要小，設計不能馬虎，要注意一些問題。 使用磁控濺射的真空鍍膜設備通常采用的是圓筒主體結構，結構上要保證快速抽空，因氣袋會緩慢的放氣，因此要避免出現(xiàn)隔離孔穴，真空系統(tǒng)上端會加裝磁控濺射槍，為了使真空室和元件有足夠的強度，保證在外部和內(nèi)部的作用力下不產(chǎn)生形狀的變化，厚度需要足夠。 焊接是真空室制造中的一道重要 工序，保證焊接之后的真空室不會產(chǎn)生漏氣現(xiàn)象，須合理設計焊接結構，提高焊接質量，處在超高真空的內(nèi)壁粗糙度要拋光使室外室內(nèi)表面很光潔，須特別注意的是防止生銹。
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